半导体过滤器一个特征是“极尽苛刻”的要求减少过滤器本身的融出物。

随着全球半导体工艺节点不断缩小,特征尺寸和几何形状变得更加复杂,其流体和气体流中杂质对生产效率的影响不断提升,制造过程中对污染的敏感性显著增加。金属、微粒和有机物等杂质直接影响每个工艺步骤,从而导致更高的工艺冲洗量、更多的化学用量、昂贵的停机时间和显著降低的良品率。半导体产业对过滤解决方案提出了前所未有的挑战。

Darlly在长期的研发探索中,形成了体系化的半导体过滤解决方案,在湿法刻蚀与清洗(WEC)、光刻(Litho)、电子特种气体、化学机械平坦化(CMP)等工艺中都有优异的表现。我们将这些过滤解决方案应用到半导体制程工艺中,降低了成本,提高了可靠性并使半导体的制造效率最大化,帮助客户降低维护频率,提高设备正常运行时间、产品质量、生产良率、设备使用寿命以及综合经营业绩。

Darlly的全氟过滤器通过工艺的优化,确保其清洁度能够达到先进半导体的工艺要求,从而更完美的应对苛刻的电子化学品过滤挑战。

如有疑问,请联系我们

联系专家,了解有关 Darlly 产品的更多信息,查找最符合您需求的解决方案。

半导体应用