| 化学式 | 中文名称 | 成分属性 | 优选滤材方案 |
|---|---|---|---|
| N2 | 氮气 | 单品 | PTFE+PP |
| He | 氦气 | 单品 | PTFE+PP |
| O2 | 氧气 | 单品 | PTFE+PP |
| Ar | 氩气 | 单品 | PTFE+PP |
| H2 | 氢气 | 单品 | PTFE+PP |
半导体电子气体通常分为高纯度大宗气体和电子特气。事实上，对于一个典型的晶圆厂来说，高纯度气体是仅次于硅本身的最大材料支出。随着临界尺寸的下降，半导体器件变得越来越精密。在单个原子的位置很重要的世界中,容错阈值非常严格。因此,现代半导体工艺要求工艺气体具有尽可能高的纯度。
另一方面，由于其精密程度的提升，芯片厂对车间的空气洁净度也提出了更加苛刻的要求，先进的制程工艺中甚至对单个工艺环境都会有单独的空气净化系统。半导体车间的洁净度一般会按照ISO 14644-1的标准进行分类。在最高级别的洁净室中,每立方米空气中的粒径大于0.1微米的微粒数量必须少于10个。
Bulk Gas System
| 气体等级 | 纯度要求 | 杂质含量 | 应用领域 |
|---|---|---|---|
| 大宗气体 | 3N | ≤1000×10-6 | 一般器件 |
| 纯气体 | 4N | ≤100×10-6 | 晶体管等 |
| 高纯气体 | 5N | ≤10×10-6 | 大规模集成电路 |
| 电子气体 | 6N | ≤1×10-7 | 超大规模集成电路 |
