半导体电子气体通常分为高纯度大宗气体和电子特气。事实上,对于一个典型的晶圆厂来说,高纯度气体是仅次于硅本身的最大材料支出。随着临界尺寸的下降,半导体器件变得越来越精密。在单个原子的位置很重要的世界中,容错阈值非常严格。因此,现代半导体工艺要求工艺气体具有尽可能高的纯度。

另一方面,由于其精密程度的提升,芯片厂对车间的空气洁净度也提出了更加苛刻的要求,先进的制程工艺中甚至对单个工艺环境都会有单独的空气净化系统。半导体车间的洁净度一般会按照ISO 14644-1的标准进行分类。在最高级别的洁净室中,每立方米空气中的粒径大于0.1微米的微粒数量必须少于10个。

化学式中文名称成分属性优选滤材方案
N2氮气单品PTFE+PP
He氦气单品PTFE+PP
O2氧气单品PTFE+PP
Ar氩气单品PTFE+PP
H2氢气单品PTFE+PP

Bulk Gas System

气体等级纯度要求杂质含量应用领域
大宗气体3N≤1000×10-6一般器件
纯气体4N≤100×10-6晶体管等
高纯气体5N≤10×10-6大规模集成电路
电子气体6N≤1×10-7超大规模集成电路