机械化学研磨

 

CMP Slurry过滤需要考虑最大限度保证符合工艺要求尺寸的研磨颗粒放行,由内到外的梯度孔径滤膜可以很好的解决这一问题。

CMP过滤目的

  • 滤除大直径颗粒,防止晶圆表面划伤
  • 保留小直径颗粒,确保Slurry研磨效果
  • 防止凝胶生成,避免晶圆表面缺陷
工艺化学品名中文名称成分属性优选滤材方案
CMPSlurriesCMP研磨液混合剂PP
CMPDZ38X铜CMP后清洗剂混合剂PTFE+PFA
CMPEKC5670铜CMP后清洗剂专利配方有机混合剂PTFE+PFA
CMPICS7000铜CMP后清洗剂专利配方有机混合剂PTFE+PFA
CMPCST100柠檬酸专利配方有机混合剂PTFE+PFA
CMPESC784铜CMP后清洗剂干刻蚀残留物清洗剂专利配方有机混合剂PTFE+PFA