光刻工艺主要分三步：涂胶 coater，曝光 exposure，显影 development。

光刻工艺中，电子化学品在接触空气的过程中容易产生气泡，因此在光刻工艺段选择匹配的过滤器，除了颗粒和凝胶外，还需要考虑对气泡的过滤。同时为了减少化学品的损耗，也需要考虑到滤材与过滤对象的化学兼容性。

光化学品从高压向低压分配时，低工作压力确保过滤器不会导致光化学品脱气。尼龙66和高密度聚乙烯（HDPE）滤膜与典型光刻化学品完全相容，在可抽出物方面极端清洁，可提供极佳的可润湿性。