可提高产线工艺稳定性，降低缺陷的发生

随着智能设备的不断升级和普及，对储存单元的要求从GB级别发展到以TB为单位。这样的升级造成储存器容易对关键数据的丢失，因此需要对储存芯片有更苛刻的要求。这就需要更先进的过滤工艺来控制污染物对储存单元的影响。        

衬底的清洁和制备，以及介质清洁对于成功清除表面内的污染物十分重要。这些关键工艺节点中一旦带入污染物，就会使产品产生缺陷，影响下机产品良率。缺陷的出现，需要产线停止工作以排除故障，而这样的停机一次就可造成巨大的产能损失，在高附加值的半导体行业中，这是不可接受的。

Darlly提供完美适配于储存芯片制程的过滤解决方案，其产品覆盖CMP研磨液、超纯水以及清洗与刻蚀化学品的过滤纯化。我们的产品均在洁净室内生产，具有低析出、长使用寿命的特点，可提高产线工艺稳定性，降低缺陷的发生。